光刻機(jī)（Mask Aligner） 又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等。
光刻機(jī)是干什么用的？如字面意思，就是把我們想要的芯片，再通過(guò)設(shè)計(jì)師設(shè)計(jì)出規(guī)格之后用光學(xué)技術(shù)刻在晶圓上，其實(shí)和洗相片的意思有點(diǎn)接近，用光學(xué)技術(shù)把各種各樣形式的電路刻在晶圓從而使之后的工藝順著刻出來(lái)的樣子繼續(xù)加工。一片晶元以12寸為例大概可以生產(chǎn)成品幾百到幾千不等的小芯片，而不是要將手機(jī)那么小的芯片一片一片刻出來(lái)的，如果真這樣那效率太慢了光刻機(jī)是芯片產(chǎn)業(yè)中*昂貴且技術(shù)難度**的機(jī)臺(tái)，好幾億一臺(tái)都是隨便的。因?yàn)樗钦麎K芯片的主題和框架。
光刻機(jī)的工作原理是要經(jīng)過(guò)硅片表面清洗、烘干、旋涂光刻膠、干燥、對(duì)準(zhǔn)曝光、去膠、清洗、轉(zhuǎn)移等眾多工序完成的。經(jīng)過(guò)一次光刻的芯片還可以繼續(xù)涂膠、曝光。越復(fù)雜的芯片，線路圖的層數(shù)就越多，而且也需要更精密的曝光控制過(guò)程。
光刻機(jī)一般是用在激光上，下面以在玻璃上刻蝕圖形為基礎(chǔ)，介紹光刻機(jī)的工作原理：
1、清洗玻璃并烘干，首先準(zhǔn)備一塊玻璃，玻璃的大小可以根據(jù)需要裁減，然后將玻璃清洗干凈烘干，備用。
2、在玻璃上涂覆光刻膠，光刻膠有正性和負(fù)性之分。
3、干燥，采用固化干燥機(jī)讓玻璃揮發(fā)液體成分，干燥的目的是為了玻璃進(jìn)一步加工的需要。
4、曝光，曝光的方式有很多種，比如激光直寫(xiě)、通過(guò)掩模板同時(shí)曝光等都可以。
5、去膠，去膠的方法也很多，比如放在刻蝕劑中，用正性膠的話，被光照到的地方就會(huì)被溶解，沒(méi)有光照到的地方光刻膠保留下來(lái)，到這里就已經(jīng)在光刻膠上刻蝕出了所需圖形。
6、清洗，去膠結(jié)束后，對(duì)玻璃進(jìn)行清洗。
7、轉(zhuǎn)移，轉(zhuǎn)移的方法也有很多，可以采取離子束轟擊，光刻膠和玻璃同時(shí)被轟擊等等，光刻膠被轟擊完后，暴露出來(lái)的玻璃也被轟擊，就把光刻膠上的圖形轉(zhuǎn)移到玻璃上。這樣就完成了。